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第589章 摩尔定律和半导体工艺制程（第3页）

如果按照这个方向继续下去，本来应该去寻找波长157纳米的光源，开始生产45纳米及以下的芯片。

但是当时的光源开发公司，在研制波长157纳米的光源时遇到了困难，或者说是瓶颈。

所以朱靖垣首先发了一份纪念证书，还让礼部列了一个“半导体产业开拓者”名单存档。

就只能与按照intel相同的时间节点，制定自己的生产和升级计划，好让自己的节奏与intel对齐。

就算是朝廷的反垄断法，都可能已经无法撼动这些垄断厂商的地位了。

到了1997年的时候，他再次做了非正式的折中化修正，改成了一年半翻一倍。

继续使用193纳米的光源，推动芯片制程从45纳米继续上升，最终的极限做到了7纳米工艺。

按照朱靖垣的计划，六十四位处理器开发完成之后，将会开始主动向民用市场推广，主动开发更多民用设备。

缺乏引导的蓝海市场竞争会出现各种各样的混乱。

民间厂商要加入这个产业，就必须按照已经形成的行业标准去做事情。

会有很多商人想尽一切办法，把他们的商品推给任何有购买力的人，这非常有利于新产品的迅速推广。

所以193纳米的光穿过一层水之后，就有了等效于134纳米波长光源的效果。

你来我往的轮番挤牙膏就会成为市场上的常态。

于是，台积电和阿斯麦尔合作，以林本坚提出的方向为目标，研发出了浸润式光刻机。

在半导体产业方兴未艾的时代，处于蓝海状态的半导体和处理器行业竞争激烈而且混乱。

大明的半导产业是完全官方主导，并且由官方机构和厂商完成的。

然后朱靖垣继续处理眼前的事情，继续了解这几年的半导体产业的成果。

让汪莱安排多组人员分头去攻关这些技术。

当然，这种模式优点也同样明显，那就是技术和标准的可控性。

而台积电的林本坚发现了另外一个方向。

直到波长为193纳米的节点的时候，已经可以用来生产280纳米到65纳米制程芯片了。

负责过开拓性的项目攻关的主管，后续在晋升的排序中会提高优先度。

在此之前，不直接掌握行业资源的官方，也没有能力要求所有厂商执行某种标准。

大明这边也可以尝试，建设大规模的同步辐射光源，在它的基础和原理上讨论，各种光源和光刻的可行性。

也就是俸禄的升级和直接的奖金。

如果在其他的特定行业内，也有类似intel这种顶级上游厂商，能够在产业内拥有绝对影响力。

最终让intel成了整个微处理器领域内绝对的行业领导者。

而且执行相关标准的官方机构占据着绝对的主动权。

罚款对他们而言不痛不痒，朝廷还没有能力真的彻底关闭他们。

但是他们现在说：我们的产品两年升级一轮，性能两年提升一倍，成本两年下降一半。

在计算机产业内，Intel、amd、nvidia虽然是三家公司，但是相互之间有股权交叉和专利交叉授权。

朱靖垣把自己能想到的都依次列举出来，作为自己的不确定的设想。

情况讲的差不多了之后，朱靖垣让所有人在社稷库内大堂内集合，举行了一个封赏和计划宣讲会。

他们的理论利润是没有明显限制的。

大家统一两年升级一次，采用相对近似而且足够大的升级幅度，能够非常方便的互相配合。

早期的市场竞争不充分，没有理论上无限的商业利润驱动，开发人员升级和推广产品的积极性不高。

才有可能形成相对稳定的秩序和行业标准。

最关键的当然是工艺制程。